2013 |
- - Photomask ¹× 3D Master Á¦ÀÛÀ» À§ÇÑ Á¦Á¶°øÀåµî·Ï ¿Ï·á
- - ISO 9001:2008 ȹµæ
- - ¿¬±¸°³¹ßÀü´ãºÎ¼ ÀÎÁ¤¼ ȹµæ
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2012 |
- - Photomask Á¦ÀÛÀ» À§ÇÑ ¼³ºñ ¿Ï·á
- - µ¶ÀÏ FAETH »ç¿Í »ç¾÷ÆÄÆ®³Ê ÇùÁ¤
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2011 |
- - Áß±¹ CSMC ¿Í E-Beam Lithography System Technical Service °è¾à ¿Ï·á
- - ¹Ì±¹ Waftermasters Inc. »ç¿Í »ç¾÷ÆÄÆ®³Ê ÇùÁ¤
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2010 |
- - Áß±¹ Huajong University ¿¬±¸¼Ò¿¡ Nikon Stepper & Scanner ÆǸŠ¹× ¼³Ä¡ ¿Ï·á
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2009 |
- - ¿µ±¹ Stepper Technology Ltd. »çÀÇ Çѱ¹ ¿¡ÀÌÀüÆ® °è¾à
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2008 |
- - µ¶ÀÏ GenIsys GmbH »çÀÇ Çѱ¹ ¿¡ÀÌÀüÆ® °è¾à
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2007 |
- - Toppan Photomasks Inc. ¿Í E-Beam Lithography System Technical Service °è¾à
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2006 |
- - ¢ß ÈÞ´ÏÅØ ¹ýÀÎ ¼³¸³
- - Photronics Shanghai ÀÇ E-Beam Lithography System ÀÌÀü ¼³Ä¡ ¹× IMECAS & NEMI µî À¯¼ö¿¬±¸¼Ò¿¡ ±â¼ú Áö¿ø
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