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2013
  • - Photomask ¹× 3D Master Á¦ÀÛÀ» À§ÇÑ Á¦Á¶°øÀåµî·Ï ¿Ï·á
  • - ISO 9001:2008 ȹµæ
  • - ¿¬±¸°³¹ßÀü´ãºÎ¼­ ÀÎÁ¤¼­ ȹµæ

2012
  • - Photomask Á¦ÀÛÀ» À§ÇÑ ¼³ºñ ¿Ï·á
  • - µ¶ÀÏ FAETH »ç¿Í »ç¾÷ÆÄÆ®³Ê ÇùÁ¤

2011
  • - Áß±¹ CSMC ¿Í E-Beam Lithography System Technical Service °è¾à ¿Ï·á
  • - ¹Ì±¹ Waftermasters Inc. »ç¿Í »ç¾÷ÆÄÆ®³Ê ÇùÁ¤

2010
  • - Áß±¹ Huajong University ¿¬±¸¼Ò¿¡ Nikon Stepper & Scanner ÆǸŠ¹× ¼³Ä¡ ¿Ï·á

2009
  • - ¿µ±¹ Stepper Technology Ltd. »çÀÇ Çѱ¹ ¿¡ÀÌÀüÆ® °è¾à

2008
  • - µ¶ÀÏ GenIsys GmbH »çÀÇ Çѱ¹ ¿¡ÀÌÀüÆ® °è¾à

2007
  • - Toppan Photomasks Inc. ¿Í E-Beam Lithography System Technical Service °è¾à

2006
  • - ¢ß ÈÞ´ÏÅØ ¹ýÀÎ ¼³¸³
  • - Photronics Shanghai ÀÇ E-Beam Lithography System ÀÌÀü ¼³Ä¡ ¹× IMECAS &   NEMI µî À¯¼ö¿¬±¸¼Ò¿¡ ±â¼ú Áö¿ø